VENA-300

　VENA系列自動匹配器用于真空鍍膜、等離子刻蝕、等離子清洗、物理氣象沉積，化學氣象沉積，磁控濺射，以及太陽能制造設備PECVD等設備當中，主要功能是實現全自動匹配，解決了現在國內真空鍍膜設備中的一個技術空缺；具有自動，快速，可靠，高效，準確，節省人力和時間等特點。可選的射頻系統檢測模塊可實時檢測出系統的正反功率、駐波比、射頻信號峰值電壓、電流、直流偏置電壓等，從而使您能夠發現并顯著降低制程變化性。

優勢

●性能安全可靠，長時間工作穩定
●實時反射功率測量與控制
●優化設計、安裝、使用與維修十分簡便
●傳輸效率高，運行噪音小
●屏蔽效果好
●可外接匹配控制盒，與其他射頻功率發生器配合使用

特點

●加強了鍍膜與刻蝕工藝的控制
●優化的匹配算法加速匹配時間
●最大限度地減少駐波比與反射功率
●嚴格的可靠性測試

使用參數：